01Industry Solution
半导体光刻与检测
半导体制造对运动控制的精度要求达到纳米甚至亚纳米级别。锐云威科技深耕半导体光刻与检测领域，以自主研发的 VME/VPX 纳米级运动控制卡与 RMC 压电控制器为核心，为光刻机运动台、电子束检测设备、纳米压印装备提供高精度、高稳定性的运动控制与压电驱控解决方案。
Challenges
行业挑战
深入理解行业痛点，为精准方案奠定基础
纳米级定位精度
光刻机运动台需要在高速运动中保持纳米级定位精度，对控制系统的分辨率与响应速度要求极高。
多轴协同运动
多自由度运动台需要多轴电机协同工作，各轴间的耦合与同步精度直接影响成像质量。
长期稳定性
半导体产线 7×24 小时运行，控制系统需在宽温域、振动环境下保持长期稳定性。
Solutions
解决方案
针对行业挑战，提供完整的产品与技术方案
01
VME/VPX 纳米级运动控制卡
基于 VME/VPX 总线架构的高性能运动控制卡，支持多轴联动与纳米级插补，满足光刻机运动台的高速高精度需求。
相关产品
- VME 纳米运动控制卡
- VPX 实时控制卡
02
RMC 压电控制器
高分辨率压电陶瓷控制器，支持闭环电容反馈控制，分辨率达亚纳米级，用于压电执行器的精密驱动。
相关产品
- RMC 系列控制器
- 高压放大器模块
03
纳米压印对位系统
集成运动控制与视觉对位的完整方案，实现纳米压印工艺的高精度模板对准。
相关产品
- 运动控制卡
- 压电微动台
Advantages
核心优势
选择锐云威科技的理由
全链路自主研发
从控制算法、硬件电路到嵌入式软件全部自主研发，确保系统级优化与快速响应。
纳米级分辨率
控制系统分辨率达纳米级，配合压电执行器实现亚纳米级定位精度。
工业级可靠性
通过 ISO 9001 质量管理体系认证，产品经过严格环境测试，满足半导体产线苛刻要求。