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半导体光刻与检测
面向光刻与检测装备提供纳米级运动控制与压电驱控核心部件。以 VME/VPX 纳米级运动控制卡与 RMC 压电控制器为内核,服务光刻机运动台的精密定位与步进、电子束检测的扫描控制以及纳米压印的精密对位。
面向半导体、商业航天、精密光学与科研教学四大核心行业,提供微纳米级精密测控与压电驱控整体方案。
从纳米级运动控制、压电驱控与电源,到压电陶瓷电机、微动台与压电陶瓷器件,为各行业核心装备提供全链路自主研发方案。
面向光刻与检测装备提供纳米级运动控制与压电驱控核心部件。以 VME/VPX 纳米级运动控制卡与 RMC 压电控制器为内核,服务光刻机运动台的精密定位与步进、电子束检测的扫描控制以及纳米压印的精密对位。
面向星载与激光通信场景提供压电快反镜、微动台与配套驱控系统。压电快反镜实现光束快速偏转与精确指向,RMC 压电控制器与高压差分放大器提供可靠驱动,长行程尺蠖电机与二维微动台支持卫星机构的精密运动控制。
面向光学显微与成像系统提供压电物镜台、快反镜与多轴微动台。压电物镜台实现物镜的纳米级聚焦与扫描,快反镜支撑光束指向稳定,二维/多轴微动台与压电叠堆为超分辨显微成像提供精确定位运动。
面向高校自动化与科研教学场景提供 RCP/HIL 在线仿真验证系统。SEC 系列实时仿真平台与高速数采模块协同,支撑控制算法在线开发与半实物仿真闭环验证,为自动化专业的科研与实验教学构建完整平台。